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Isolator Physics
/1/ G.Zuther, H. Prandke:
Dependece of trap density in SiO2 thin films on the oxygen ion implantation
dosis
Physica status solidi (a) 20 (1973), K 123
/2/ G. Zuther, H. Prandke:
Thermally stimulated currents of SiO2 thin films doped with nitrogen and
phosphorus
Thin Solid Films 21 (1974), 7-9
/3/ G. Zuther, H. Prandke:
Temperatur- und Zeitabhängigkeit der Strom-Spannungs-Kennlinien amorpher
Siliziummonoxidschichten
Materialien des XX. Internat. Wiss. Koll. TH Ilmenau 1975
Vortragsreihe “Phasengrenz- und Dünnschichteigenschaften, Isolator-
und MIS-Elektronik”, 89-92
/4/ G. Zuther, H. Prandke:
Untersuchung thermostimulierter Ströme in Siliziummonoxidschichten
Wissenschaftliche Zeitschrift der Universität Rostock 24 (1975) M5,
645-649
/5/ G. Zuther,H. Prandke:
Zur Verwendung von SiO2-Schichten als transparente Elektroden für
Sandwichstrukturen
Wissenschaftliche Zeitschrift der Universität Rostock 24 (1975) M5,
651-654